[发明专利]一种管式PECVD设备的腔室结构

摘要

本发明公开一种管式PECVD设备的腔室结构，包括石英炉管，前端法兰组件，尾端法兰组件和补气装置；石英炉管的两端分别与前端法兰组件和后端法兰组件固接；石英炉管内设置有石墨舟；前端固定法兰套接在石英炉管一端外壁；前端进气法兰为环状设置；前端进气法兰内开设有环形腔；前端进气法兰内壁周向等距开设有若干布气孔；布气孔与环形腔连通；前端进气法兰外壁底部连通有进气管；远离进气管的布气孔孔径逐渐增大；石英炉管另一端连通有补气装置；能够实现工艺气体可以快速且均匀的分布在石英炉管内，气流在管内分布的均匀性以及沉积膜的均匀性大幅度的提高。