[发明专利]用于介电质化学机械抛光的组合物及方法在审
| 申请号： | 202080073983.5 | 申请日： | 2020-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN114599751A | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | S.布罗斯南;S.克拉夫特;F.孔罗;B.佩特罗;张娜;J.特鲁法;S.帕利卡拉库蒂亚图尔 | 申请（专利权）人： | CMC材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/306;B24B37/04;C01F17/229;C01F17/235 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 用于抛光具有硅氧材料的基板的化学机械抛光组合物，其包含以下、由以下组成或基本上由以下组成：液体载剂；立方形铈土研磨剂颗粒，其分散于该液体载剂中；及阳离子聚合物，其具有大于约6meq/g的电荷密度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 介电质 化学 机械抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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