[发明专利]钌的半导体用处理液及其制造方法在审
| 申请号： | 202080068032.9 | 申请日： | 2020-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN114466951A | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 佐藤伴光;吉川由树;下田享史;根岸贵幸 | 申请（专利权）人： | 株式会社德山 |
| 主分类号： | C23F1/40 | 分类号： | C23F1/40;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本山口*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种钌的半导体用处理液，其含有次溴酸离子。此外，提供一种钌的半导体用处理液，其至少添加有含溴的化合物、氧化剂、碱化合物以及水，进行混合而成，所述含溴的化合物相对于合计质量的添加量按溴元素量计为0.01质量％以上且小于2质量％，所述氧化剂的添加量为0.1质量％以上且10质量％以下，并且pH为8以上且14以下。而且，提供一种钌的半导体用处理液的制造方法，其包括：使含有次氯酸化合物和碱化合物的溶液与含溴的化合物混合的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 用处 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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