[发明专利]用于集成光子设备的焦平面光学调节在审
| 申请号： | 202080057432.X | 申请日： | 2020-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN114365004A | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | A·J·萨顿;R·S·厄普顿 | 申请（专利权）人： | 苹果公司 |
| 主分类号： | G01S7/481 | 分类号： | G01S7/481;G02B6/122 |
| 代理公司： | 北京市汉坤律师事务所 11602 | 代理人： | 魏小薇;吴丽丽 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光学设备(20A、20B、100、200、800)包括设置在半导体基板(218)上并且被配置为发射相应的光辐射束的发射器(28A、28B)的第一阵列。微光学器件(34A、34B、226、802)的第二阵列(36A、36B、224、808)定位成与光发射器的相应的光束对准，并且被布置成调节光束的相位，使得光束中的不同光束以不同的相位质量进行传输。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 集成 光子 设备 平面 光学 调节 | ||
【主权项】：
暂无信息
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