[发明专利]用于印刷具有变化的占宽比的周期性图案的方法和装置在审
| 申请号： | 202080039223.2 | 申请日： | 2020-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN113841072A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | F·克鲁贝;A·阿姆雷因;M·勒布格勒;H·索拉克;L·王 | 申请（专利权）人： | 尤利塔股份公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B5/32;G02B27/00;G02B27/09;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 钟茂建;陈岚 |
| 地址： | 瑞士卡*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于在光刻胶层中形成具有期望的占宽比的空间变化的表面浮雕光栅的方法，该方法包括：提供带有线性特征的高分辨率光栅（32）的第一掩模（31），将所述第一掩模布置在距衬底（33）第一距离处，提供带有具有设计的占宽比的空间变化的不透明和透明线性特征的可变透射光栅（27）的第二掩模（28），将所述第二掩模布置在第一掩模之前的一定距离处，使得可变透射光栅的线性特征与高分辨率光栅的线性特征正交，照射第二掩模，同时根据位移Talbot光刻法改变第一距离，并且还将第二掩模相对于其线性特征以一定角度位移，使得在曝光光刻胶的能量密度分布中基本上不存在具有可变透射光栅的周期的调制的分量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 印刷 具有 变化 周期性 图案 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于尤利塔股份公司，未经尤利塔股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080039223.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
