[发明专利]用于将粒子注入衬底的设备和方法在审
| 申请号： | 202080034328.9 | 申请日： | 2020-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN113811975A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | C·科萨托;F·克里彭多夫 | 申请（专利权）人： | MI2工厂有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/05 | 分类号： | H01J37/05;H01J37/317;H01L21/265;H01L21/425 |
| 代理公司： | 北京思创大成知识产权代理有限公司 11614 | 代理人： | 高爽 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 用于将粒子注入衬底(12)的设备包括粒子源(2)和粒子加速器(4)，用于产生包括带正电离子的离子束(10)。设备还包括衬底支架(30)和能量过滤器(20)，其设置在粒子加速器(4)和衬底支架(30)之间。能量过滤器(20)是具有预定的结构轮廓的微结构化膜，用于设定在衬底(12)中由注入工艺产生的掺杂物深度分布和/或缺陷深度分布。设备还包括用于离子束(10)的无源制动元件(22)，所述元件设置在所述粒子加速器(4)和衬底支架(30)之间并且与能量过滤器(20)间隔设置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 粒子 注入 衬底 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于MI2工厂有限责任公司，未经MI2工厂有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080034328.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
