[发明专利]用于修改光分布的光学装置在审

专利信息
申请号: 202080026000.2 申请日: 2020-01-17
公开(公告)号: CN113646583A 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 奥利·萨阿尼奥 申请(专利权)人: 莱迪尔公司
主分类号: F21V5/00 分类号: F21V5/00;F21V7/00;F21V14/06;F21V17/02;F21Y115/10
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 蔡石蒙;黄刚
地址: 芬兰*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种光学装置,该光学装置包括第一和第二光学元件(302、303),该第一和第二光学元件能够相对于彼此围绕该光学装置的几何光轴旋转。该第一光学元件包括第一表面(304),该第一表面用于修改离开该第一光学元件的光的分布,并且该第二光学元件包括第二表面(305),该第二表面面向该第一表面并且用于进一步修改该光的上述分布。该第一和第二表面中的一个表面包括凸区域,而这些表面的另一个表面包括凹区域,以使得该光学装置的光学效应能够通过使得所述第一和第二光学元件相对于彼此旋转而改变。所述第一和第二光学元件包括滑动表面(309、310),这些滑动表面用于沿垂直于该几何光轴的径向方向相对于该第一光学元件机械地支撑该第二光学元件。
搜索关键词: 用于 修改 分布 光学 装置
【主权项】:
暂无信息
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