[发明专利]用于气相沉积设备的流体处理结构和方法有效
| 申请号： | 202080024418.X | 申请日： | 2020-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN113631276B | 公开（公告）日： | 2023-05-26 |
| 发明（设计）人： | 路德·奥利斯拉格斯;杰罗恩·安东尼斯·斯梅廷克 | 申请（专利权）人： | 荷兰应用自然科学研究组织TNO |
| 主分类号： | B05B1/26 | 分类号： | B05B1/26;B05B7/00;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;洪欣 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于气相沉积设备的流体处理结构，所述结构限定了具有入口和出口的流动路径，用于将加压流体从所述入口传输到所述出口，其中所述结构包括细长狭缝和一系列喷嘴，允许加压流体通过所述一系列喷嘴以进入所述细长狭缝，所述入口在所述一系列喷嘴的上游，并且其中所述出口形成在所述细长狭缝的间隙开口处的下游，允许加压流体从所述细长狭缝朝向基底排放，其中所述一系列喷嘴被构造成提供比所述细长狭缝更大的流动阻力，并且其中所述一系列喷嘴适于在加压流体通过所述流动路径传输时形成朝向所述结构的一个或多个撞击表面的一系列射流。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 设备 流体 处理 结构 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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