[发明专利]检查设备、光刻设备、测量方法在审
| 申请号： | 202080016718.3 | 申请日： | 2020-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN113474732A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | B·J·P·罗塞特;J·H·E·A·姆吉德尔曼;B·C·H·斯梅茨 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种用于检查物体的检查设备，该设备包括：测量系统，被配置为测量：‑跨物体的感兴趣区域的物体的第一参数，以及‑在物体上的多个位置处的不同于第一参数的物体的第二参数；平台设备，被配置为在第一参数的测量期间相对于测量系统定位物体，其中测量系统被配置为在第一参数的测量期间在多个不同位置处测量第二参数，并且其中平台设备被配置为基于平台设备的柔量特性相对于测量系统定位物体。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 设备 光刻 测量方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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