[发明专利]偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法在审
| 申请号： | 202080012812.1 | 申请日： | 2020-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN113412439A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 高永幸佑;滨本大介;上条卓史 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种沿吸收轴方向的断裂得以抑制的偏光膜。本发明的偏光膜由包含二色性物质的聚乙烯醇系树脂薄膜构成，且取向函数为0.30以下。在1个实施方式中，偏光膜的厚度为8μm以下。本发明的偏光板具有：上述的偏光膜、和配置于偏光膜的至少一侧的保护层。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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