[发明专利]掩模检查装置在审

专利信息
申请号: 202080007200.3 申请日: 2020-02-03
公开(公告)号: CN113227900A 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 米泽良 申请(专利权)人: 株式会社V技术
主分类号: G03F1/84 分类号: G03F1/84;G01N21/956;H01L21/683
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 刘文海
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 能够防止反射器的共振而防止伪缺陷的产生。在对被检查对象的掩模沿大致铅垂方向进行保持的大致框状的框架的侧面设置的保持构件具有:中空的棒状构件,其沿水平方向延伸设置;第一安装部,其将棒状构件安装于框架;以及第二安装部,其设置有反射器。为了使框架沿着平台的上表面水平地移动,而将中空的棒状构件沿水平方向延伸设置。在设置于平台的柱设置有光照射部,该光照射部配置在与反射器大致相同的高度并朝向反射器沿大致水平方向照射光。
搜索关键词: 检查 装置
【主权项】:
暂无信息
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