[发明专利]具有聚焦环调整组件的等离子处理设备有效
| 申请号： | 202080004153.7 | 申请日： | 2020-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN112470249B | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 马丁·L·朱克;P·J·伦贝西斯;T·特维斯;瑞安·帕库尔斯基;马绍铭;杨晓晅 | 申请（专利权）人： | 玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京易光知识产权代理有限公司 11596 | 代理人： | 崔晓光 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种等离子体处理设备。该等离子体处理设备包括限定竖直方向和横向方向的处理室。该等离子体处理设备包括设置在处理室内的基座。该基座被配置为支撑衬底。该等离子体处理设备包括设置在处理室内的射频(RF)。RF偏置电极限定了沿着横向方向在RF偏置电极的第一端与RF偏置电极的第二端之间延伸的RF区。该等离子体处理设备包括设置在处理室内的聚焦环。该等离子体处理设备还包括聚焦环调整组件。该聚焦环调整组件包括提升销，该提升销位于RF区的外部。该提升销可沿着竖直方向移动，以沿着竖直方向调整底座和聚焦环之间的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 聚焦 调整 组件 等离子 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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