[实用新型]一种具有多工位的高分子抛光机有效

专利信息
申请号: 202023314815.7 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN214186516U 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 冯伟文 申请(专利权)人: 广州市纬略实业有限公司
主分类号: B24B9/20 分类号: B24B9/20;B24B41/06;B24B47/00
代理公司: 广州本诺知识产权代理事务所(普通合伙) 44574 代理人: 梁鹏钊
地址: 511400 广东省广州市番*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及抛光机技术领域,且公开了一种具有多工位的高分子抛光机,包括底板和立板,所述立板固定设置于底板的后侧中端,所述立板的前侧滑动设置有抛光机,所述底板的上表面且位于立板的前侧设置有旋转盘,所述旋转盘下表面通过转杆与底板转动连接,所述底板的下方中部设置有第一电机,所述第一电机的输出端与转杆的下端固定连接,所述旋转盘的上表面固定设置有多个固定座,多个所述固定座的内部均滑动设置有多个滑杆,多个所述滑杆的外侧一端均延伸至对应的固定座的外侧,所述旋转盘的上表面中部通过第一滚动轴承转动设置有丝杆,所述丝杆的杆壁螺纹套接有连接板。本实用新型能够对多个工位内的工件进行自动夹持固定,省时省力。
搜索关键词: 一种 具有 多工位 高分子 抛光机
【主权项】:
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