[实用新型]一种方便调节的全反射混光系统有效

专利信息
申请号: 202022935593.4 申请日: 2020-12-10
公开(公告)号: CN213362340U 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 黄洪裕;胡雅文;吴明仓 申请(专利权)人: 广东思沃激光科技有限公司
主分类号: F21V13/12 分类号: F21V13/12
代理公司: 深圳科湾知识产权代理事务所(普通合伙) 44585 代理人: 钟斌
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种方便调节的全反射混光系统,包括:多个光源(1)、多个聚焦透镜(2)和导光体(3),导光体(3)的下端具有反射机构(4),多个光源(1)都朝向反射机构(4),聚焦透镜(2)位于光源(1)与导光体(3)之间,导光体(3)的上端具有出光面(30),出光面(30)与反射机构(4)正对,多个光源(1)发出的光线依次经过导光体(3)的内壁全反射以及反射机构(4)全反射后从出光面(30)射出。上述全反射混光系统将合光系统和匀光系统合二为一,简化结构,解决了目前混光系统由于对位和色差导致的波段限定和效率问题。
搜索关键词: 一种 方便 调节 全反射 系统
【主权项】:
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