[实用新型]一种传感器单晶硅刻蚀装置

摘要

本实用新型公开了一种传感器单晶硅刻蚀装置，涉及传感器加工技术领域。本实用新型包括反应器，反应器外表面设有进气口、出气口、气源室和电磁线圈，反应器内部设有内腔和隔热层，内腔内部设有旋转电机、支撑柱、若干片架、若干导流伸缩管和环形凹槽，支撑柱外表面设有开腔，隔热层内部设有制冷机和温度感应器。本实用新型通过设置隔热层、制冷机和温度感应器，达到在反应器内部温度升高时，进行降温，避免电磁线圈脱落的作用；通过设置旋转电机、支撑柱、开腔、导流伸缩管和片架，达到对片架上的单晶硅均匀的与反应气体接触的作用。