[实用新型]一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置

摘要

本实用新型公开了一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置，支撑架，其顶部安装有反应罐，所述反应罐的顶部安装有反应盖，且反应盖的顶部安装有第一电机，所述反应罐的底部安装有椭圆封头；中心转轴，其与第一电机的输出轴连接，所述中心转轴的外部设置有搅拌架，所述中心转轴的一侧设置有定桨搅拌；以及均质机，其由安装在椭圆封头底部的第二电机驱动。本实用新型所述的一种应用于精抛蜡制备的均质反应装置，通过主搅拌架与定桨搅拌以及刮板的设置，加上底部高速分散均质机的配合，不仅使搅拌结构能够稳定均匀的搅拌同时，通过结构可以使搅拌桨能够进行公转，实现均匀化全方面性的搅拌混合反应，在稳定混合反应的同时也提升了反应效率。