[实用新型]一种用于化学机械研磨的研磨头有效
| 申请号： | 202022699268.2 | 申请日： | 2020-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN214054860U | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;惠宏业;王学泽;杨加明 | 申请（专利权）人： | 上海江丰平芯电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/30 | 分类号： | B24B37/30;B24B37/34 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 201400 上海市奉贤区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于化学机械研磨的研磨头，所述研磨头包括本体部、密封环、保持环、腔体室、吸附膜以及通道；所述本体部的下方依次连接有密封环和保持环，所述密封环和保持环围成的环形区域中设有吸附膜，所述本体部和吸附膜之间的区域为腔体室，所述吸附膜的下方依次设置晶圆和研磨垫，所述吸附膜的侧面与保持环接触，所述保持环的底部与研磨垫接触；所述通道嵌入本体部中，包括第一通道和第二通道，所述第一通道的一端延伸至腔体室，所述第二通道的一端延伸至吸附膜和晶圆接触面处；所述吸附膜的下部边缘弧度接近直角。本实用新型通过对吸附膜结构的改进，从而提高了晶圆边缘的研磨率，提升了晶圆的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械 研磨 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海江丰平芯电子科技有限公司，未经上海江丰平芯电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202022699268.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
