[实用新型]一种原位监测原子层沉积设备有效

专利信息
申请号: 202022410974.0 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN213680879U 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 范天庆;屈芙蓉;冯嘉恒;夏洋;高圣;明帅强 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所嘉兴微电子仪器与设备工程中心
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/52
代理公司: 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 代理人: 梁凯
地址: 314000 浙江省嘉兴市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种原位监测原子层沉积设备,包括:前驱体供应单元;沉积腔室,与所述前驱体供应单元连通,所述沉积腔室内部设置有样品台;第一电子束发射单元,与所述沉积腔室连通并向所述样品台发射第一电子束;第二电子束接收单元,与所述沉积腔室连通并接收通过所述样品台衍射形成的第二电子束;第一真空度调节单元,与所述电子束发射单元连通;以及;第二真空度调节单元,与所述沉积腔室连通。本申请解决了现有技术中原位监测原子层沉积设备和RHEED独立设置,在需要监测时,需要重新搭建、组装,搭建工作费工费时,且该种方式搭建完的设备环境,难以保证监测数据的准确性的技术问题。
搜索关键词: 一种 原位 监测 原子 沉积 设备
【主权项】:
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