[实用新型]一种原位监测原子层沉积设备有效
| 申请号: | 202022410974.0 | 申请日: | 2020-10-26 |
| 公开(公告)号: | CN213680879U | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
| 发明(设计)人: | 范天庆;屈芙蓉;冯嘉恒;夏洋;高圣;明帅强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所嘉兴微电子仪器与设备工程中心 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人: | 梁凯 |
| 地址: | 314000 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种原位监测原子层沉积设备,包括:前驱体供应单元;沉积腔室,与所述前驱体供应单元连通,所述沉积腔室内部设置有样品台;第一电子束发射单元,与所述沉积腔室连通并向所述样品台发射第一电子束;第二电子束接收单元,与所述沉积腔室连通并接收通过所述样品台衍射形成的第二电子束;第一真空度调节单元,与所述电子束发射单元连通;以及;第二真空度调节单元,与所述沉积腔室连通。本申请解决了现有技术中原位监测原子层沉积设备和RHEED独立设置,在需要监测时,需要重新搭建、组装,搭建工作费工费时,且该种方式搭建完的设备环境,难以保证监测数据的准确性的技术问题。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 原位 监测 原子 沉积 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





