[实用新型]一种半蚀刻引线框架有效

专利信息
申请号: 202022343676.4 申请日: 2020-10-20
公开(公告)号: CN213212156U 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 沈健;高迎阳;陈奉明 申请(专利权)人: 泰州东田电子有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L23/367
代理公司: 合肥左心专利代理事务所(普通合伙) 34152 代理人: 阮志刚
地址: 225300 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及引线框架技术领域,且公开了一种半蚀刻引线框架,包括框架,所述框架的上部开设有导流槽,所述导流槽的一端与导流口固定连通,所述导流口开设在坡板的一侧,所述坡板的一侧固定安装有第一垫片,所述第一垫片的上侧内部固定安装有散热片,所述第一垫片的上端固定安装有第二垫片。该半蚀刻引线框架,通过在框架的上表面开设有导流槽,且导流槽与导流口进行连通,便于对导流槽上将多余的电镀液进行导流,并通过导流口统一流出,增加了装置表面液体的流动速度,便于装置进行加工,且第一垫片的上部设有散热片,便于在第一垫片将框架上部的热进行吸收和交换后,通过散热片将装置上部的多余热量进行散出,提高装置的散热效率。
搜索关键词: 一种 蚀刻 引线 框架
【主权项】:
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