[实用新型]一种晶体高饱和度连续快速生长的控制系统

摘要

本实用新型涉及一种晶体高饱和度连续快速生长的控制系统，系统包括控制装置、检测装置、执行装置和晶体生长装置。控制装置由PLC主机模块、触摸屏、热电阻输入模块、12个固态继电器和二台变频器组成；PLC主机模块通过输入接口与检测装置中的液位开关及测温热电阻相连，通过输出接口与执行装置中的电加热、电磁阀、循环泵及输送泵相连。溶液配制罐内溶剂和溶质共存，通过控制温度进行溶解，可使溶液所溶解的溶质含量接近溶解温度下的平衡溶质浓度。由于溶液配制罐温度大于培养罐生长温度，从而使溶液中溶解的溶质浓度高于生长温度下的平衡溶质浓度，保证进入培养罐的溶液处于过饱和状态。本实用新型系统提高了大尺寸晶体的生长速度。