[实用新型]一种镀膜均匀的真空镀膜装置有效
| 申请号： | 202022081222.4 | 申请日： | 2020-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN213113492U | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 卢林松 | 申请（专利权）人： | 苏州双石真空镀膜有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/24 |
| 代理公司： | 苏州欣达共创专利代理事务所(普通合伙) 32405 | 代理人： | 刘盼盼 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括：底座和箱体，所述箱体内部前侧设有第一转盘，所述箱体内部后侧设有第二转盘，所述第一转盘和第二转盘中间位置固定安装有连接管，所述连接管内开设有通孔，所以通孔内设有转辊，所述箱体后表面安装有电机，所述电机与转辊后表面固定连接，所述底座上表面后侧设有真空泵，所述真空泵通过气管连接至箱体内部，与现有技术相比，该设计通过添加了第一转盘、第二转盘以及转辊，该设计通过转辊带动第一转盘和第二转盘转动，从而使产品旋转，产品位置进行变化，有助于提高镀膜效果，使镀膜均匀，本实用新型便于操作，镀膜均匀，同时方便取出。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 均匀 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
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