[实用新型]一种用于等离子喷涂设备的过滤装置有效

专利信息
申请号: 202021435637.0 申请日: 2020-07-20
公开(公告)号: CN213855721U 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 陈如明;姜蕻;蔡勇;杨子健 申请(专利权)人: 英迪那米(徐州)半导体科技有限公司
主分类号: B07B9/00 分类号: B07B9/00;B07B1/28;B07B1/46;B07B7/06;B02C19/16;C23C4/134
代理公司: 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 代理人: 徐小淇
地址: 221600 江苏省徐*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种用于等离子喷涂设备的过滤装置,包括喷枪,喷枪内设有阴极枪头、阳极喷嘴、进料口及进气口,阴极枪头向阳极喷嘴发射等离子流,进料口与阳极喷嘴连通,进料口上设有进料管路,进料管路上设有抽料泵,还包括储料箱及过滤装置,储料箱的底部贯通并设有抽拉式的下料板,过滤装置包括振动筛、混料腔及输送风机,振动筛的进料口连通储料箱底部的开口,混料腔为蜗壳状,混料腔的向外渐扩端垂直向上设置,混料腔的向外渐扩端连通振动筛的出料口,混料腔向内渐缩的中心处连通进料管路,输送风机的出风口连通混料腔。本实用新型属于离子喷涂设备技术领域,与现有技术相比的优点在于:可防止原料结块、对原料除杂且输送均匀。
搜索关键词: 一种 用于 等离子 喷涂 设备 过滤 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英迪那米(徐州)半导体科技有限公司,未经英迪那米(徐州)半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202021435637.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top