[实用新型]一种半导体零部件的清洗液过滤装置有效

专利信息
申请号: 202021435491.X 申请日: 2020-07-20
公开(公告)号: CN213854162U 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 陈如明;陈彩丽;卜庆磊;杨子健 申请(专利权)人: 英迪那米(徐州)半导体科技有限公司
主分类号: B01F7/24 分类号: B01F7/24;B01F3/22;B01F15/00;B01D36/02
代理公司: 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 代理人: 徐小淇
地址: 221600 江苏省徐*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种半导体零部件的清洗液过滤装置,其特征在于:包括过滤箱、横板、辊轴、驱动机构及若干个过滤盒,所述横板固定安装在所述过滤箱内,且其上开设有若干个筛孔,所述辊轴转动安装在所述横板与所述过滤箱的顶板之间,所述驱动机构安装在所述过滤箱的顶部,且其与所述辊轴传动连接,所述辊轴的外圆周面上固定套接有螺旋叶片,所述过滤盒可拆卸式的密封固定在所述过滤箱的箱壁上,且其内填充有活性炭颗粒,本实用新型与现有技术相比的优点在于:实现过滤箱内清洗液的充分混合,保证了半导体零部件的清洗效率和质量,同时,大大减少了清洗液中的杂质颗粒含量,保证了半导体零部件表面的洁净,保障半导体的生产质量。
搜索关键词: 一种 半导体 零部件 清洗 过滤 装置
【主权项】:
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