[实用新型]一种磁控溅射设备有效
| 申请号： | 202021399924.0 | 申请日： | 2020-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN212533105U | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 张诚 | 申请（专利权）人： | 三河市衡岳真空设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京元合联合知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11653 | 代理人： | 李非非 |
| 地址： | 065200 河北省廊坊*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种磁控溅射设备，该磁控溅射设备包括溅射室、以及在该溅射室内相对设置的基片台和溅射靶枪，该溅射靶枪内设置有靶材，其中，该磁控溅射设备还包括：挡板以及匀气环，该挡板以及匀气环设置在该溅射室内；挡板包括侧遮挡部以及上遮挡部，其中，侧遮挡部环绕溅射靶枪设置且其上端超出靶材的溅射面，上遮挡部从侧遮挡部的上端向内延伸至靶材边缘处；匀气环与外部工艺气体提供装置相连通且其上开设有多个出气孔，匀气环设置在挡板和溅射靶枪之间并对靶材形成环绕，匀气环的设置高度位于靶材溅射面和上遮挡部之间。使用本实用新型所提供的磁控溅射设备可以确保稳定的溅射速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
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