[实用新型]一种板式PECVD镀膜载板有效
| 申请号： | 202021337336.4 | 申请日： | 2020-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN212476878U | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 钱孟;蒲天;尹鸣 | 申请（专利权）人： | 梅耶博格光电设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;H01J37/32 |
| 代理公司： | 南京中高专利代理有限公司 32333 | 代理人： | 袁兴隆 |
| 地址： | 201100 上海市闵行区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种板式PECVD镀膜载板，包括载板，所述载板包括框架和支撑板，所述框架上开设有若干用于承载支撑板的承载槽；所述支撑板与框架配合连接；在所述支撑板的内侧边缘设有支撑硅片的承载面。本实用新型可灵活更换不同尺寸支撑板对相应尺寸硅片镀膜，节省了不同尺寸载板采购成本和维护成本；承载槽内设置加强筋，抗形变能力强，从而减少硅片不良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 板式 pecvd 镀膜 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
