[实用新型]一种化学机械抛光垫及抛光装置有效
| 申请号： | 202021266043.1 | 申请日： | 2020-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN212683552U | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;杨加明 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/24 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种化学机械抛光垫及抛光装置，所述化学机械抛光垫通过在旋转中心设置中心凹槽，加强了对研磨液的留存能力，能够有效疏散抛光过程中产生的热量，降低了抛光垫中心的温度，从而最终缓解了抛光垫脱胶的问题并提高了抛光垫的使用寿命；包含所述抛光垫的抛光装置对晶圆的抛光效果佳。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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