[实用新型]EB双层辐照系统有效
| 申请号： | 202021130967.9 | 申请日： | 2020-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN212889420U | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 贾朝伟;李琦;曾利;罗德坤;刘帅 | 申请（专利权）人： | 四川智研科技有限公司 |
| 主分类号： | B41F23/04 | 分类号： | B41F23/04;B41F13/02;B41F13/10;B05C9/04;B05C9/12;B05C1/08;B05C13/02;B05D3/06;B05D3/04;B65H20/02;B65H23/26;A61L2/08 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人： | 蒋海燕 |
| 地址： | 621000 四川省绵阳*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种EB双层辐照系统，包括放卷单元、EB辐照单元、收卷单元，还包括：对基材两侧面分别进行涂布或印刷处理的第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元；以及将涂布或印刷后的基材两面分别引导至EB辐照单元进行双面辐照的传导单元。本实用新型提供一种EB双层辐照系统，通过对辐照系统的整体布局设置，使得放卷输出的基材能通过第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元与传导单元的配合，将基材两面分别涂布或印刷相应的油墨、涂料、胶黏剂中的任意一种，再通过EB辐照单元对基材两面分别进行辐照，进而实现一套设备可同时完成基材两面的涂布或印刷以及辐照，降低了设备投入，减小了设备的体积。 | ||
| 搜索关键词： | eb 双层 辐照 系统 | ||
【主权项】：
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