[实用新型]一种半导体生产制造用光刻机有效
| 申请号: | 202021085467.8 | 申请日: | 2020-06-12 |
| 公开(公告)号: | CN212135141U | 公开(公告)日: | 2020-12-11 |
| 发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 肇庆悦能科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 526500 广东省肇庆市封*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本实用新型涉及半导体生产技术领域,且公开了一种半导体生产制造用光刻机,包括基座,所述基座中部的顶面固定连接有支撑架,所述支撑架的顶部固定安装有光刻机本体,所述光刻机本体底部一侧的表面设置有光源定位机构,所述光源定位机构的中部固定安装有承接架。本实用新型通过将九个定位顶杆在防脱压板的底面让位结构与套装压板的顶面让位结构之间所形成的调节空间进行距离移动,可在不拆卸承接架的情况下完成对不同晶圆片的定位调节运动,保证晶圆片与光刻机本体内部光源的中心始终在同一直线上,保障光刻质量,进而解决现有的定位装置对于不同直径的晶圆进行定位时需要拆卸更换装置的定位板结构,操作麻烦的问题。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 半导体 生产 制造 用光 | ||
【主权项】:
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