[实用新型]一种高均匀面光源装置有效
| 申请号： | 202020862411.2 | 申请日： | 2020-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN212108039U | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 钟超 | 申请（专利权）人： | 广东奥普特科技股份有限公司 |
| 主分类号： | F21S8/00 | 分类号： | F21S8/00;F21V7/04;F21V7/28;F21V5/08 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 潘俊达;王滔 |
| 地址： | 523000 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型属于机器视觉设备技术领域，具体涉及一种高均匀面光源装置，包括发光组件、安装板、承托座和漫射板，安装板、承托座和漫射板围成灯罩，发光组件设置于承托座，安装板的侧部倾斜于发光组件，安装板的侧部设置有反光层，反光层围设于发光组件。本实用新型能够提高光源的出光均匀度，能够使反射光照射至发光面的各个周侧边缘位置，有效地提高了面光源的整体均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 光源 装置 | ||
【主权项】：
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