[实用新型]一种基坑阳角的处理结构有效

专利信息
申请号: 202020686493.X 申请日: 2020-04-29
公开(公告)号: CN212452662U 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 胡建伟;陈学龙;赵旭荣;张国银;李青炜 申请(专利权)人: 中冶集团武汉勘察研究院有限公司
主分类号: E02D17/04 分类号: E02D17/04
代理公司: 武汉楚天专利事务所 42113 代理人: 杨宣仙
地址: 430080 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型提供了一种基坑阳角的处理结构。所述结构包括由于基坑外的不利因素导致的支护结构向基坑内凸起而形成的的基坑阳角,在基坑阳角的长边冠梁与短边冠梁之间设有相互平行的第一阳角背拉梁和第二阳角背拉梁,所述第一阳角背拉梁与短边冠梁的连接部位位于短边冠梁远离长边冠梁的端部,且第一阳角背拉梁和第二阳角背拉梁与长边冠梁及短边冠梁之间的夹角相等。本实用新型通过在基坑阳角处设置背拉梁,利用基坑阳角的自平衡,解决了基坑阳角处位移难以限制的问题,避免发生因基坑阳角处位移过大而影响主体结构施工情况,有利于缩减工期,并保证了基坑周边环境的安全,并且该结构受力明确、施工简单、成本较低、可实现快速推广。
搜索关键词: 一种 基坑 处理 结构
【主权项】:
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