[实用新型]一种掩膜版多功能承载架有效
| 申请号: | 202020590799.5 | 申请日: | 2020-04-20 |
| 公开(公告)号: | CN212112122U | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
| 发明(设计)人: | 李真明;黎增祺;周涛 | 申请(专利权)人: | 南通美精微电子有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F1/00 |
| 代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董成 |
| 地址: | 226001 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种掩膜版多功能承载架,包括承载架,所述承载架的顶部设置有夹持机构,所述承载架的内部设置有第一传动机构,所述夹持机构包括两个支撑板,其中一个所述支撑板固定安装在承载架一侧的顶部,另一个所述支撑板滑动安装在承载架靠近另一侧的顶部,两个所述支撑板相对面的顶部外壁滑动连接有支杆,所述支杆远离支撑板的一端固定连接有三角固定夹,所述支杆与支撑板顶部的腔内设置有第二传动机构,所述三角固定夹包括固定夹,所述固定夹的顶部固定安装有气缸,所述气缸输出轴穿入固定夹内部的一端固定安装有夹块。通过设置夹持机构、第一传动机构和第二传动机构,达到了将掩膜版夹持固定的效果。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 掩膜版 多功能 承载 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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