[实用新型]真空等离子处理系统有效

专利信息
申请号: 202020493562.5 申请日: 2020-04-07
公开(公告)号: CN211507568U 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 罗弦 申请(专利权)人: 深圳市诚峰智造有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 44275 代理人: 王芳
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种真空等离子处理系统,包括传送机构、等离子处理腔体、驱动机构、用于上料的第一机械手和用于下料的第二机械手,所述等离子处理腔体包括第一腔体和第二腔体,所述第一腔体设置于所述传送机构上,且所述传送机构带动所述第一腔体运动,所述第二腔体设置于所述传送机构的上方,所述驱动机构驱动所述第二腔体向第一腔体运动以实现等离子处理腔体的合体或分离。无需人工操作,整个过程均可自动进行,处理效率高,且处理效果好。
搜索关键词: 真空 等离子 处理 系统
【主权项】:
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