[实用新型]清洁装置的基站及具有其的清洁系统有效

专利信息
申请号: 202020327759.1 申请日: 2020-03-16
公开(公告)号: CN212415641U 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 苏杭;丁铁;孙邓泉 申请(专利权)人: 江苏美的清洁电器股份有限公司;美的集团股份有限公司
主分类号: A47L11/40 分类号: A47L11/40;A47L1/02
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 郎志涛
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及清洁设备技术领域,具体涉及一种清洁装置的基站及具有其的清洁系统。本实用新型旨在解决现有清洁装置不方便自清洗的技术问题。为此目的,本实用新型提供了一种清洁装置的基站,包括:壳体,壳体上设置有与滚筒对应的清洁槽,清洁装置的滚筒能够伸入清洁槽内;至少一个滚筒清洁件,至少一个滚筒清洁件设置于清洁槽内并沿清洁槽的长度方向分布,滚筒伸入清洁槽内并转动,至少一个滚筒清洁件用于刮除滚筒上的垃圾。本实用新型通过基站对清洁装置进行清洁,满足了清洁装置对自清洁的要求,使清洁装置的滚筒可以维持较长时间的干净,通过基站对清洁装置进行清洗,无需用户手动清洗清洁装置,提高了用户的使用体验。
搜索关键词: 清洁 装置 基站 具有 系统
【主权项】:
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