[实用新型]一种改善物理刻蚀崩边的掩膜板有效
| 申请号： | 202020256980.2 | 申请日： | 2020-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN211968896U | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 庄军港;陈学诣 | 申请（专利权）人： | 宁波得力微机电芯片技术有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/16 | 分类号： | B41J2/16;B24C1/04;B24C9/00;G03F1/00 |
| 代理公司： | 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 | 代理人： | 胡志萍;王莹 |
| 地址： | 315699 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种改善物理刻蚀崩边的掩膜板，包括具有镂空区域的基板，基板上沿镂空区域边缘的一周均匀地向镂空区域内凸设有多个突出部。本实用新型中的改善物理刻蚀崩边的掩膜板，沿镂空区域边缘的一周均匀地向镂空区域内凸设有多个突出部，如此在进行墨道喷砂作业时，喷砂轰击到非掩膜区，因为掩膜区和非掩膜区因为突出部形成了缓冲区。在喷砂轰击过程中，反射回溅射的砂粒优先触碰到边缘伸出的锯齿凸点上，使其成受力点，进而坍塌崩裂，喷砂在缓冲区中通过掩膜板的数量会减少，缓冲区收到的冲击量会减少，减少出现崩边的情况。在喷砂完成之后，使得加工出的墨道边缘接近直线，提高了喷墨头芯片的外观和良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 物理 刻蚀 掩膜板 | ||
【主权项】：
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