[发明专利]镜头畸变补偿方法、存储介质以及直写式光刻机有效
| 申请号： | 202011635539.6 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112748644B | 公开（公告）日： | 2022-09-23 |
| 发明（设计）人： | 赵美云 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人： | 朱鸿雁 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种镜头畸变补偿方法、存储介质以及直写式光刻机，镜头畸变补偿方法包括，获取光刻版图的版图数据；根据预设曝光步进宽度将所述版图数据划分为多个曝光数据组；根据畸变趋势方程对每个所述曝光数据组进行补偿以获得补偿后的曝光数据，所述畸变趋势方程为所述曝光数据组中数据点的相对位置与所述直写式光刻机镜头的畸变误差的关系方程；根据所述补偿后的曝光数据进行曝光处理。该方法可以缩小物镜畸变误差，提升直写式光刻机的位置精度和多层对准或套刻的能力，提高制程能力。 | ||
| 搜索关键词： | 镜头 畸变 补偿 方法 存储 介质 以及 直写式 光刻 | ||
【主权项】：
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