[发明专利]一种氮化硅陶瓷基材表面高反射防激光膜层的制备方法有效
| 申请号： | 202011628204.1 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112811937B | 公开（公告）日： | 2022-07-08 |
| 发明（设计）人： | 朱嘉琦;汪新智;程珙;宋志超;刘颖;白一杰;杨磊;胡梦玥;任建华 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学;北京遥感设备研究所 |
| 主分类号： | C04B41/87 | 分类号： | C04B41/87 |
| 代理公司： | 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司 23213 | 代理人： | 侯静 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种氮化硅陶瓷基材表面高反射防激光膜层的制备方法，它涉及一种高反射防激光膜层的制备方法。本发明要解决现有氮化硅材料对于激光吸收率较高，会产生大量的热量，造成结构破坏的问题。制备方法：一、氮化硅陶瓷表面预处理；二、氧化钛纳米浆料的配制；三、氧化钛涂层的制作。本发明用于氮化硅陶瓷基材表面高反射防激光膜层的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氮化 陶瓷 基材 表面 反射 激光 制备 方法 | ||
【主权项】：
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