[发明专利]一种掺杂碳化硅单晶及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011621835.0 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112853491A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 魏汝省;李斌;毛开礼;马康夫;靳霄曦;樊晓 申请(专利权)人: 山西烁科晶体有限公司
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B23/00
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王术娜
地址: 030006 山西省太*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明提供了一种掺杂碳化硅单晶及其制备方法,属于晶体生长技术领域,本发明提供的制备方法,将碳化硅结晶物料在籽晶、混合气氛下进行结晶生长;所述混合气氛包括载气和掺杂气体;所述混合气氛的流量为10~500sccm;所述载气和掺杂气体的体积比为(1~50):1。在本发明中,碳化硅结晶物料在结晶生长的过程中会分解为气相组分,这些气相组分在温度梯度及浓度梯度的驱动下传输至籽晶表面,在籽晶表面冷却沉积;在此过程中,载气和掺杂气体的通入,能够使掺杂气体同生长组分一起生长,进而使掺杂元素进入晶体的晶格中,实现均匀可控掺杂。
搜索关键词: 一种 掺杂 碳化硅 及其 制备 方法
【主权项】:
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