[发明专利]纵抛设备有效
| 申请号： | 202011621306.0 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112809512B | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 赵昀;李翠玲;孙鑫;曲斌;李桂萍 | 申请（专利权）人： | 中航试金石检测科技（大厂）有限公司 |
| 主分类号： | B24B21/00 | 分类号： | B24B21/00;B24B21/18 |
| 代理公司： | 北京冠榆知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11666 | 代理人： | 朱亚琦 |
| 地址： | 065300 河北省廊*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开纵抛设备，包括底板、固定在底板上的第一导轨副和第二导轨副以及保护罩，所述第一导轨副的顶部设置有抛光组件，所述第二导轨副的顶部设置有夹持组件，所述抛光组件的侧面设置有自动张紧组件，所述抛光组件的底部设置有第一滚珠丝杆副，所述夹持组件的底部设置有第二滚珠丝杆副，所述保护罩的底部与底板的顶部固定连接。本发明，通过设置第一导轨副和第一滚珠丝杆副，能够使抛光组件沿直线方向运动，从而对工件进行纵向抛光，且纵向抛光效果好，纹路整齐且相互平行，能够避免出现纹路交叉等，并通过设置上砂带盘和下砂带盘，能够对砂带进行更换，从而保证用于抛光工件的砂带处于相同的状态，避免抛光效果出现差异。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 | ||
【主权项】：
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