[发明专利]激光共聚焦多点测高系统及测高方法在审

专利信息
申请号: 202011608082.X 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112414312A 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 马双双 申请(专利权)人: 嘉兴景焱智能装备技术有限公司
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;G01B11/30
代理公司: 上海霖睿专利代理事务所(普通合伙) 31391 代理人: 黄燕石;陈得宗
地址: 314100 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及精密光学仪器测量系统技术领域,公开了一种激光共聚焦多点测高系统,包括激光光源和共聚焦直线光路,所述激光光源通过准直镜向分光棱镜发射激光,在所述激光光路的准直镜前方,设置微透镜阵列和第一分光镜,激光入射光位于第一分光镜的透光光路上,在所述第一分光镜的分光光路上设置第二分光镜,在所述第二分光镜的透光光路和分光光路上,分别设置正离焦PMT组和负离焦PMT组,在正离焦PMT组的光路上设置正离焦小孔组,在负离焦PMT组的光路上负离焦小孔组,所述微透镜阵列包括多个阵列排布的凸透镜。本发明还公开了对应的测高方法。本发明针对待测面的实际分布通过微透镜阵列来实现更换测试范围,实现同时测量多个不同点的特征信息。
搜索关键词: 激光 聚焦 多点 测高 系统 方法
【主权项】:
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