[发明专利]一种平面轨迹绘制方法、装置、设备及存储介质有效
申请号: | 202011596905.1 | 申请日: | 2020-12-28 |
公开(公告)号: | CN112634401B | 公开(公告)日: | 2023-10-10 |
发明(设计)人: | 刘继祖;王轶丹;崔宁 | 申请(专利权)人: | 深圳市优必选科技股份有限公司 |
主分类号: | G06T11/20 | 分类号: | G06T11/20;G06T15/00;G06F9/50 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 潘登 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请实施例公开了一种平面轨迹绘制方法、装置、设备及存储介质。其中,该方法包括:对轨迹集中的轨迹点进行筛选,确定有效轨迹点;根据所述有效轨迹点,确定所述有效轨迹点对应的网格模型;对所述网格模型进行渲染,得到平面轨迹图。执行本申请方案,可以有效的降低内存占用和减少渲染压力。 | ||
搜索关键词: | 一种 平面 轨迹 绘制 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市优必选科技股份有限公司,未经深圳市优必选科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011596905.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。