[发明专利]一种基于液晶底片的四步相移正弦条纹场投射模块有效

专利信息
申请号: 202011576045.5 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN112764277B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 彭仁军;岳慧敏;陈晓西;刘旋;田明睿;杨立峰;张靖 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/133;G01B11/25
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 甘茂
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于3D测量技术领域,提供一种基于液晶底片的四步相移正弦条纹投影模块,特别适合用于微型化3D测量设备中;本发明采用液晶底片,仅包含两个COM电极和两个SEG电极,通过对电极施加驱动电压显示类正弦二进制填充图案,再通过投影成像镜头和扩展镜头,投射出正弦条纹;选择不同的加电组合方式,液晶底片可以分别显示四幅满足四步相移关系的类正弦二进制填充图案,从而通过分时控制投影出满足四步相移的四幅正弦条纹场。本发明结构控制简单,尺寸小巧,特别适合要求整机体积微型化的3D测量设备;同时,基于简单的结构和控制以及低成本的元器件,本发明投影模块比较容易低成本化。
搜索关键词: 一种 基于 液晶 底片 相移 正弦 条纹 投射 模块
【主权项】:
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