[发明专利]一种增加溶解差的光刻胶树脂单体及其合成方法在审
| 申请号： | 202011541794.4 | 申请日： | 2020-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN112679461A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 潘惠英;蒋小惠;李嫚嫚;贺宝元;郭颖 | 申请（专利权）人： | 上海博栋化学科技有限公司 |
| 主分类号： | C07D317/26 | 分类号： | C07D317/26;C07D317/72;G03F7/004 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201614 上海市松江*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种增加溶解差的光刻胶树脂单体，涉及光刻胶树脂单体领域，光刻胶树脂单体的结构式为： |
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| 搜索关键词： | 一种 增加 溶解 光刻 树脂 单体 及其 合成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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