[发明专利]一种超薄钕铁硼永磁体表面防护涂层的制备方法有效

专利信息
申请号: 202011513392.3 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN112725751B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 高志强;任鸿儒;侯利锋;卫英慧;侯德琦 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02;C23C14/58;C23C28/02
代理公司: 北京律远专利代理事务所(普通合伙) 11574 代理人: 樊喜峰
地址: 030024 *** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明公开了一种超薄钕铁硼永磁体表面防护涂层的制备方法,包括以下步骤:将经过表面清洁处理的钕铁硼磁体,进行直流磁控溅射镀膜,得到表面沉积铜梯度涂层的钕铁硼磁体;将上述步骤得到了表面沉积铜层的钕铁硼磁体,再进行表面前处理,然后施镀镍基涂层,得到表面沉积Cu‑Ni组合镀层的钕铁硼磁体;溅射过程为开启Cu‑Sn靶和Cu靶的电源,同时溅射Cu‑Sn靶和Cu靶;Cu‑Sn靶的初始功率为120W,在溅射过程中按3~5W/min的速率递减,直至关闭;而Cu靶的功率为150W,始终保持不变,时间为1.5‑3.0h。该超薄永磁体结合了磁控溅射工艺不需要酸洗前处理,使其所制备的膜层沉积牢固和致密耐蚀的优点,解决了永磁体表面处理过程中酸洗溶液和电镀溶液侵蚀基体组织导致磁性能下降的问题。
搜索关键词: 一种 超薄 钕铁硼 永磁体 表面 防护 涂层 制备 方法
【主权项】:
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