[发明专利]一种减少碳化硅晶体包裹物的方法有效
| 申请号: | 202011511628.X | 申请日: | 2020-12-18 |
| 公开(公告)号: | CN112746316B | 公开(公告)日: | 2022-08-23 |
| 发明(设计)人: | 王增泽;鲍慧强;张岩;赵子强;李龙远;葛明明 | 申请(专利权)人: | 国宏中宇科技发展有限公司 |
| 主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B29/36 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 100089 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本申请公开了一种减少碳化硅晶体包裹物的坩埚结构,包括凸形坩埚(1)、晶体生长原料(2)、籽晶托(3);凸形坩埚(1)剖视形如“凸”字形,具有圆柱状的底部(11)和圆柱状的上部(12),原片形顶盖(13),晶体生长原料(2)基本充满底部(11);籽晶托(3)的涂覆涂层(31);涂层材料是钛、钽、钨或其碳化物。还公开一种减少碳化硅晶体中碳包裹物的方法,针对该坩埚结构以实施,包括坯料选用、成型步骤、烧成阶段三个步骤。以及一种碳化硅晶体生长方法,其利用该坩埚结构以实施,包括涂覆和预烧、填装碳化硅生长原料步骤、实际生长步骤。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 减少 碳化硅 晶体 包裹 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国宏中宇科技发展有限公司,未经国宏中宇科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011511628.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。





