[发明专利]一种减少碳化硅晶体包裹物的方法有效

专利信息
申请号: 202011511628.X 申请日: 2020-12-18
公开(公告)号: CN112746316B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 王增泽;鲍慧强;张岩;赵子强;李龙远;葛明明 申请(专利权)人: 国宏中宇科技发展有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/36
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100089 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种减少碳化硅晶体包裹物的坩埚结构,包括凸形坩埚(1)、晶体生长原料(2)、籽晶托(3);凸形坩埚(1)剖视形如“凸”字形,具有圆柱状的底部(11)和圆柱状的上部(12),原片形顶盖(13),晶体生长原料(2)基本充满底部(11);籽晶托(3)的涂覆涂层(31);涂层材料是钛、钽、钨或其碳化物。还公开一种减少碳化硅晶体中碳包裹物的方法,针对该坩埚结构以实施,包括坯料选用、成型步骤、烧成阶段三个步骤。以及一种碳化硅晶体生长方法,其利用该坩埚结构以实施,包括涂覆和预烧、填装碳化硅生长原料步骤、实际生长步骤。
搜索关键词: 一种 减少 碳化硅 晶体 包裹 方法
【主权项】:
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