[发明专利]一种新型大模场低弯曲损耗光纤在审

专利信息
申请号: 202011498207.8 申请日: 2020-12-17
公开(公告)号: CN112462467A 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 杨伟;毛久兵;杨剑;杨唐绍;许梦婷;秦宗良;张颖;钟付先 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第三十研究所
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 徐静
地址: 610000 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种新型大模场低弯曲损耗光纤,包括纤芯层、包层和基底,包层置于纤芯层的外部,纤芯层和包层设置于基底中;纤芯层包括多个低掺杂的微结构氟棒;包层由内到外依次为第一空气孔层、氟棒层和第二空气孔层,第一空气孔层在第一侧设置有多个大直径空气孔;氟棒层在第一侧设置有多个低掺杂的大直径氟棒,在第二侧设置有多个低掺杂的小直径氟棒;第二空气孔层在第二侧设置有多个小直径空气孔;微结构氟棒、大直径氟棒和小直径氟棒的折射率小于基底的折射率。本发明的光纤能够在小半径弯曲的情况下,将高阶模式扩散到包层中,增加高阶模式的损耗,滤掉纤芯中高阶模式,使得整个纤芯内只包含基模,可减小基模的弯曲损耗,提高光纤传输质量。
搜索关键词: 一种 新型 大模场低 弯曲 损耗 光纤
【主权项】:
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