[发明专利]一种二次钻孔工艺有效

专利信息
申请号: 202011474637.6 申请日: 2020-12-14
公开(公告)号: CN114619514B 公开(公告)日: 2023-09-08
发明(设计)人: 龚丽丽;谢二堂;高峰;杨东成 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: B26F1/16 分类号: B26F1/16;B26D7/27;B26D7/02
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 刘金玲
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供了一种二次钻孔工艺,二次钻孔工艺由钻孔设备实施,钻孔设备包括图像获取装置、控制器和钻机,控制器与图像获取装置和钻机分别信号连接。待二次钻孔结构需要进行二次钻孔的表面具有靶标,二次钻孔工艺具体包括:控制器根据待二次钻孔结构的靶标,通过图像获取装置确认待二次钻孔结构的待二次钻孔区域的位置;控制器再控制图像获取装置针对待二次钻孔工区域的形貌生成图像;控制器获取上述图像,并根据上述图像得到需要二次钻孔的一钻孔的实际孔位坐标;控制器根据上述实际孔位坐标来控制钻机的主轴对待二次钻孔结构的需要二次钻孔的一钻孔进行二次钻孔。该方案可以保证二次钻孔形成的孔与一钻孔之间的对准精度较高,提高产品质量。
搜索关键词: 一种 二次 钻孔 工艺
【主权项】:
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