[发明专利]用于电子束熔丝沉积过程的丝件相对高度控制装置及方法有效

专利信息
申请号: 202011449675.6 申请日: 2020-12-09
公开(公告)号: CN112605402B 公开(公告)日: 2022-02-15
发明(设计)人: 都东;张昊宇;常树鹤;梁志跃 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: B22F12/90 分类号: B22F12/90;B22F10/85;B33Y50/02
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 杨明月
地址: 100084 北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种用于电子束熔丝沉积过程的丝件相对高度控制装置及方法,该装置包括图像采集模块、前置束斑生成模块和处理模块,其中:图像采集模块,用于在电子束熔丝沉积过程中,实时采集前置束斑生成模块生成的前置束斑;前置束斑生成模块,用于生成与电子束沿预设行进路径同步移动的前置束斑,其中,前置束斑设置于电子束的前方;处理模块,用于对前置束斑图像进行处理,获取采集位置的实际相对高度数据,并将实际相对高度数据和预设相对高度数据进行对比,获取差值数据,以根据差值数据对丝材和零件之间的距离进行调整。本发明克服了图像处理带来的时间滞后和机械系统执行延迟,保障了控制的实时性,提高成形质量和效率。
搜索关键词: 用于 电子束 沉积 过程 相对高度 控制 装置 方法
【主权项】:
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