[发明专利]一种可见光修正步进紫外光曝光焦距的校正装置及方法在审
| 申请号： | 202011442244.7 | 申请日： | 2020-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN112485974A | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 卫荣汉;许雁雅;李世交;陈银玲;周克佳 | 申请（专利权）人： | 郑州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 450001 河南省郑*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可见光修正步进紫外光曝光焦距的校正装置及方法，可应用于微纳加工领域中的精密步进紫外光光刻机上。利用一组校正光罩及涂布萤光物质的校正基板，所构成的校正装置设计，可分别在紫外光和可见光的光源下找出对应的清晰对焦位置，作为仅用可见光对焦的步进光刻机的紫外光曝光焦距修正。本校正装置及方法可有效减少步进紫外光光刻机的焦距误差，提高微纳加工曝光图案的解析度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可见光 修正 步进 紫外光 曝光 焦距 校正 装置 方法 | ||
【主权项】：
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