[发明专利]一种聚甲基丙烯酸甲酯基底介质增透膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202011408757.6 申请日: 2020-12-04
公开(公告)号: CN112553585B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 谢雨江;原清海;林兆文;王奔 申请(专利权)人: 上海米蜂激光科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/22;C23C14/30;G02B1/115
代理公司: 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718 代理人: 李思琼;冯振华
地址: 200136 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种聚甲基丙烯酸甲酯基底介质增透膜及其制备方法,该增透膜的膜系结构为:Sub/M/H/L/A;其中,Sub为PMMA基底层,M为Al2O3过渡层,H为Ta2O5高折射率膜层,L为SiO2低折射率膜层,A为空气层。该制备方法中利用磁控溅射方式制备PMMA基底上的过渡层,使过渡层实现了基底与后续功能层的稳定连接,同时利用电子束蒸发、离子束辅助方式制备功能层,极大地改善了后续功能层的应力状态,有效的解决了PMMA基底与膜层热膨胀系数差异导致的脱膜、机械强度低等问题。本发明制备的PMMA基底增透膜能够在940nm波段获得极高的透过率,具有可操作性强、制备工艺重复性好、产品质量优良等优点,可广泛应用于光电系统等领域。
搜索关键词: 一种 甲基丙烯酸 基底 介质 增透膜 及其 制备 方法
【主权项】:
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