[发明专利]一种高吸收高发射率超黑分子吸附涂层的制备方法有效
| 申请号： | 202011357112.4 | 申请日： | 2020-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN112675822B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 李杨;卢松涛;洪杨;吴晓宏;秦伟 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | B01J20/26 | 分类号： | B01J20/26;B01J20/30;C09D5/32;C09D179/04;C09D7/62;C23C16/455;C23C16/40;B05D7/16 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 邓宇 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开了一种高吸收高发射率超黑分子吸附涂层的制备方法，属于超黑材料技术领域。本发明解决现有以沸石分子筛为功能材料的分子污染吸附器存在重量、尺寸大及安装位置不灵活、吸收面积不够广的问题。本发明以大比表面积的炭黑和沸石粉为核，利用原子层沉积技术制备的超薄氧化物膜层为壳的功能粉体作为填料，将其与低挥发的树脂材料混合，涂覆固化后得到分子吸附涂层。该涂层的平均太阳吸收率为95％，半球发射率为91％，使表面层具有消除杂光的性能，且该涂层对邻苯二甲酸脂、有机硅氧烷、正丁烯等有机气体(VOCs)的吸附量≥17.58mg·g |
||
| 搜索关键词： | 一种 吸收 发射 率超黑 分子 吸附 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学，未经哈尔滨工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011357112.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
